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等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD)

價  格:詢價

產  地:美國更新時間:2021-02-26 15:32

品  牌:Nano-Master型  號:

狀  態:正常點擊量:1240

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上海非利加實業有限公司

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等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD)

美***NANOMASTER公司PECVD(等離子增強化學氣相沉積)系統能夠沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等??蛇x用射頻(RF)、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應耦合等離子體(ICP)源。該公司采用先進技術和穩定可靠的設計為您提供多方位的服務。



產品參數

等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD)

1)   平板尺寸:8”

2)   源直徑:5”或8”

3)   氣體輸入管數量:4(兩個反應氣,一個載氣,一個排空管)

4)   源距平板的距離:2”或者可調

5)   真空:低于E-7Torr,200L/sec渦輪分子泵及3.5cfm機械泵組合

6)   最大平板溫度:800℃

7)   射頻電源供應:600W,13.5MHz

8)   射頻偏壓:300W,13.5MHz

產品型號:

NPE-3000 桌面型PECVD系統

NPE-4000 立式型PECVD系統


產品介紹

等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD)

應用領域:

1.        等離子誘導表面改性

2.        等離子清洗(NF3)

3.        反應離子蝕刻

4.        等離子體聚合

5.        PECVD沉積SiO2、Si3N4、類金剛石、硬質薄膜等





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