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商品編號：89257

高級型原子層沉積機(jī)

價格：詢價

產(chǎn) 地：更新時間：2021-01-19 15:36

品牌：型號：R-200 ALD

狀態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1424

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芬蘭PICOSUN™ R-200高***型 ALD

技術(shù)參數(shù)

襯底尺寸和類型：

。50-200 mm /單片
。156 mm x 156 mm太陽能硅片
。3D復(fù)雜表面襯底
。粉末與顆粒
。Roll-to-roll , 襯底寬 70 mm
。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品

工藝溫度： 50 - 500 °C , 可選更高溫度

基片傳送選件：

。氣動升降（手動裝載）
。預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手（Load lock ）
。半自動裝載，用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)

前驅(qū)體 ：

。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源、等離子體（*多4路氣體）
。6根獨(dú)立源管線，*多加載12個前驅(qū)體源（加上Plasma管路，共7根獨(dú)立源管線）

重量：350 + 200 kg

尺寸：(W x H x D) 取決于選件

*小：146 cm x 146 cm x 84 cm

：189 cm x 206 cm x 111 cm

選件：集群工具，PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器，集成橢偏儀，QCM，RGA，超高真空兼容，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）

驗收標(biāo)準(zhǔn) ：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3工藝

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高級型原子層沉積機(jī)

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